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    电子级超纯水的技术要求
    作者:佚名 日期:2019年05月10日 来源:本站原创 浏览:

        在半导体制作工艺中,80%以上的工序要经过化学处理,而每一道化学处理都离不开超纯水;在硅片的处理工序中,一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程,此时如水中含有杂质便会进入硅片,造成器件性能下降成品率低。

        电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质18.3 MΩ.cm (25℃)。对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。如256兆位的动态随机储存器生产工艺,光刻线条宽已达0.1微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤0.05μm,而且≥0.05μm不得超过500个/升超纯水。

    电子级超纯水的技术要求级别

     

     

     

    指标

    中华人民共和国电子级水国家标准(GB/T11446.1997

    ASTM电子级水

    (E-I)标准

    (1993)

    EW-I

    EW-II

    EW-III

    EW-IV

    设计参考值


    电阻率

    MΩ.cm(25)

    18以上

    (95%时间)

    不低于17

    15

    (95%时间)不低于13

    12.0

    0.5

    10以上

    (95%时间)

    不低于5

    18以上(90%时间)不低于

    17

    全硅,最大μg/L

    2

    10

    50

    1000

    20.0

    5(SIO2)

    >1μm微粒数,

    最大值,/mL

    0.1

     

    5

    10

    500

    10

    0.1

     

    细菌个数,

    最大值个/ mL

    0.01

    0.1

    10

    100

    <10

    1/1000

    铜最大值, μg/L

    0.2

    1

    2

    500

    2

    1

    锌最大值, μg/L

    0.2

    1

    5

    500

    5

    0.5

    镍最大值, μg/L

    0.1

    1

    2

    500

    2

    0.1

    钠最大值, μg/L

    0.5

    2

    5

    1000

    5

    0.5

    钾最大值, μg/L

    0.5

    2

    5

    500

    5

    2

    氯最大值, μg/L

    1

    1

    10

    1000

    10

    1

    硝酸根,

    最大值, μg/L

    1

    1

    5

    500

    5

    1

    磷酸根,

    最大值, μg/L

    1

    1

    5

    500

    5

    1

    硫酸根,

    最大值, μg/L

    1

    1

    5

    500

    5

    1

    总有机碳,

    最大值, μg/L

    20

    100

    200

    1000

    200

    1

    细菌内毒素

    (E.U.)






    0.03


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